Рис. 8.3. (см. скан) Фигуры в примере формирования маски. 
 
Окончательная маска представляет собой диагональ, идущую слева направо и сверху вниз: 
 
 
которая в действительности была одним из признаков, использованных при построении объектов рис. 8.3. 
Этот алгоритм будет, вообще говоря, формировать различные маски о для каждого из  возможных упорядочений
 возможных упорядочений  . К тому же множество полученных при этом масок не будет наименьшим. Более эффективный алгоритм проходит множество описаний
. К тому же множество полученных при этом масок не будет наименьшим. Более эффективный алгоритм проходит множество описаний  раз и формирует
 раз и формирует  масок. Пусть
 масок. Пусть  маска, полученная после
 маска, полученная после  итерации, и
 итерации, и  — определение маски
 — определение маски  которое будет построено после рассмотрения
 которое будет построено после рассмотрения  описания в ходе
 описания в ходе  итерации.
 итерации. 
Определим  как множество целых чисел
 как множество целых чисел  для которых
 для которых 
 
Таким образом, в К и перечислены те из предварительно выработанных масок, которые образуют подмножества маски, вырабатываемой в настоящий момент, и содержатся в описании, рассматриваемом в настоящий момент. 
Тогда обсуждаемый алгоритм можно записать в виде 
 
Из определения  вытекает, что решение о модификации
 вытекает, что решение о модификации  принимается в результате сравнения с переменным порогом, изменяемым так, чтобы учесть степень, в которой описание
 принимается в результате сравнения с переменным порогом, изменяемым так, чтобы учесть степень, в которой описание  уже было обусловлено другими признаками. Любые два признака
 уже было обусловлено другими признаками. Любые два признака  должны отличаться по крайней мере порогом
 должны отличаться по крайней мере порогом  .
. 
Блок и др. показали, что если признаков действительно  и этого достаточно для восстановления всех описаний из множества
 и этого достаточно для восстановления всех описаний из множества  характеризуемого
 характеризуемого  компонентами в наименьшей маске и не более
 компонентами в наименьшей маске и не более  общими компонентами для любых двух масок, то, если
 общими компонентами для любых двух масок, то, если  удовлетворяет соотношениям
 удовлетворяет соотношениям 
 
 
алгоритм построит соответствующие маски.