Глава 4. ИНТЕРФЕРЕНЦИЯ В СЛУЧАЕ ФОТОГРАФИЧЕСКОЙ СУПЕРПОЗИЦИИ СПЕКЛ-СТРУКТУР, СМЕЩЕННЫХ В ПОПЕРЕЧНОМ НАПРАВЛЕНИИ

§ 1. Амплитудное пропускание проявленной фотопластинки

Поскольку далее речь пойдет об опытах с фотопластинками, на которых зарегистрированы спекл-структуры, мы прежде всего остановимся на основных свойствах проявленных фотопластинок со спекл-структурами. В качестве примера рассмотрим схему, показанную на рис. 53.

Рис. 53. Фоторегистрация в плоскости спекл-структуры от матового стекла

Рис. 54. Амплитудное пропускание проявленного негатива.

Матовое стекло ограниченное диафрагмой освещают лазером и регистрируют спекл-структуру на фотопластинке помещенной на расстоянии от матового стекла. Свет, испускаемый лазером, поляризован, и в дальнейшем мы будем считать (если не оговорено обратное), что ориентация световых колебаний в ходе опыта не изменяется.

Спекл-структура в плоскости характеризуется функцией описывающей распределение интенсивности света в этой плоскости (гл. 1, § 5). Если время экспозиции равно то фотопластинка получает энергию Нас интересует соотношение между энергией и амплитудным пропусканием фотопластинки после проявления. Примерная кривая зависимости показана на рис. 54. На ней имеется прямолинейный участок на котором амплитудное пропускание линейно зависит от энергии Если времена экспозиции одинаковы, то их можно не вводить в рассмотрение: при работе на

прямолинейном участке амплитуда и интенсивность будут связаны линейным соотношением. Заметим, что прямолинейный участок кривой на рис. 54 соответствует области недодержек на классической характеристической кривой, связывающей оптическую плотность негатива с логарифмом энергии, получаемой фотопластинкой.

Вернемся к схеме рис. 53. Предположим, что сделана одна экспозиция, причем вариации интенсивности в спекл-структуре, т. е. вариации функции таковы, что соответствующие изменения амплитудного пропускания проявленной фотопластинки не выходят за пределы участка кривой на рис. 54. Тогда амплитудное пропускание негатива можно записать в виде

где константы, зависящие от свойств используемой фотоэмульсии.