Пред.
След.
Макеты страниц
Распознанный текст, спецсимволы и формулы могут содержать ошибки, поэтому с корректным вариантом рекомендуем ознакомиться на отсканированных изображениях учебника выше Также, советуем воспользоваться поиском по сайту, мы уверены, что вы сможете найти больше информации по нужной Вам тематике ДЛЯ СТУДЕНТОВ И ШКОЛЬНИКОВ ЕСТЬ
ZADANIA.TO
3.3. Принципы работы ПЗСЧтобы полностью понять возможности GaAs-ПЗС в области систем оптической обработки сигналов, необходимо познакомиться с физикой этих приборов. В данном разделе дается описание устройства и принципов работы ПЗС на основе барьеров Шоттки. Обсуждение будет по необходимости коротким, и основное внимание уделено аспектам, наиболее характерным проблеме оптической обработки с большой скоростью. Приборы с зарядовой связью были рассмотрены исчерпывающим образом в [25], а недавние разработки в области ПЗС на основе барьеров Шоттки обсуждались в [24]. В дополнение к GaAs будет упомянут и важный родственный материал AlGaAs, который непосредственно составляет в комбинации с GaAs высококачественные гетеропереходы и, похоже, будет иметь большое значение в устройствах ЭООС.
Рис. 3.6. Принципиальная схема электрооптического процессора. (кликните для просмотра скана) На рис. 3.7 показан разрез GaAs ПЗС-структуры со скрытым каналом, сделанным на основе барьеров Шоттки. Термин «скрытый канал» относится к тому обстоятельству, что зарядовые пакеты удерживаются в
Рис. 3.8. Распределение потенциала и электрических полей в ПЗС на барьерах Шоттки. Случай а) относится к более распространенному варианту размещения преобразовать его в зарядовый пакет, пропорциональный амплитуде сигнала, и переместить этот пакет на выходной узел, управляя этим процессом с помощью электродов у соответствующих затворов. Вспомогательные цепи, показанные на рис. 3.7, обычно размещаются на той же подложке, включая полевые транзисторы затвора сброса и истоковый повторитель, используемый для обнаружения заряда на выходном узле. В некоторых случаях формирователи тактовых импульсов и дополнительные цепи согласования выходного сигнала также выполняются интегрально с ПЗС. Чтобы понять, как возникает перенос заряда, на рис. 3.8 и 3.9 показаны электростатические потенциалы и электрические поля в материале. Потенциалы отсчитываются относительно дна зоны проводимости, потенциал затвора берется за начало отсчета при О В. На рис. 3.8 изображены распределения потенциала и электрических полей вдоль оси у (по нормали к плоскости устройства) для двух случаев. В случае (а) слой GaAs состоит из однородно легированного слоя
Рис. 3.9. Объемное распределение потенциала в канале ПЗС. Заряд переносится в направлении х параллельно плоскости устройства, соответствующей на подложке
где
где Т — толщина слоя, В направлении х (направление переноса заряда) поля и потенциалы определяются в основном напряжением на затворе. На рис. 3.9 представлены трехмерные зависимости распределения потенциалов в канале ПЗС для случая Управляющие сигналы, прикладываемые к затворам, показаны более подробно на рис. 3.10 для случая четырехфазной синхронизации устройства. При низких частотах тактовые сигналы являются прямоугольными сигналами, распространяющимися между высоким потенциалом, который притягивает электроны находятся под высоким потенциалом и накапливают заряд. Для перемещения зарядового пакета на следующую пару затворов потенциал на третьем затворе (например, По мере увеличения тактовой частоты становится более трудным поддержание быстрых тактовых переходов, и форма импульсов ухудшается почти до синусоидальной формы. К счастью, большинством ПЗС-структур можно управлять синусоидальными сигналами, без значительного снижения характеристик. Этот факт может быть использован для снижения рассеиваемой мощности в цепях формирователей тактовых сигналов. Причина этого состоит в том, что затворы ПЗС-структур представляют преимущественно емкостную нагрузку для цепи формирователя и, следовательно, возможно управлять затворами с помощью Одну важную проблему, связанную с этим устройством, не указанную на слишком упрощенной диаграмме на рис. 3.9, представляет область зазора между затворами, показанная на рис. 3.7. Если этот зазор очень широкий, соседние электроды на затворах не регулируют соответствующим образом потенциал в канале и возможно образование ложных потенциальных ям или барьеров, которые в свою очередь могут вызвать серьезные нарушения в процессе переноса заряда [8, 9]. Чтобы избежать этой опасности, требуется поддерживать минимальные размеры зазора, обычно не более 1 мкм. Это является особенно
Рис. 3.10. Формы тактовых сигналов для 4-фазного ПЗС. настоятельным требованием в процессе изготовления устройства и нуждается в совершенном литографическом оборудовании и тщательном проведении процессов. Недавно была продемонстрирована новая структура с затворами, изготавливаемыми из одного или более металлических слоев и диэлектрических слоев, обеспечивающих межэлектродную изоляцию [20]. Этот процесс создания перекрывающихся затворов предъявляет менее жесткие требования к литографии и дает возможность регулировать размеры зазора с субмикронной точностью. Ниже описана другая структура затворного типа, успешно работавшая с гигагерцевыми тактовыми частотами. Далее будут кратко упомянуты ограничения характеристик, накладываемые темновым током и ловушечными эффектами. Темновой ток представляет собой спонтанную генерацию электрон-дырочных пар и, следовательно, является источником нежелательного заряда. Так как представляющие здесь интерес приложения связаны с использованием высоких тактовых частот, заряд темнового тока обычно будет удаляться из устройства прежде, чем он будет накоплен в значительном количестве. Типичная величина для GaAs составляет Даже когда ПЗС-структура работает при достаточном размахе тактовых импульсов и имеет хорошие профили распределения потенциала в области между затворами, обеспечивающими полный перенос свободных зарядов, остается дополнительный источник потерь заряда, возникающий вследствие захвата на ловушки. Источником таких ловушек являются химические загрязнения и структурные дефекты кристалла. Захват носителей на такие состояния обычно происходит за времена в пределах наносекунд, но освобождаются они за времена, зависящие от типа ловушки. По сравнению с кремнием, где обычными являются концентрации ловушек менее один особенно широко распространенный вид ловушек в GaAs - это дефект стехиометрии, известный как
|
1 |
Оглавление
|