8.3.5. Фоторезисты

Другой класс фоточувствительных материалов образуют фоторезисты, которые отображают информацию в виде рельефных картин. При освещении фоторезиста актиничным излучением в нем происходят химические изменения, приводящие к различной его растворимости для разных экспозиций. В зависимости от того, является ли обрабатываемый фоторезист негативным (или позитивным), проявитель с соответствующим растворителем способствует растворению либо неосвещенного, либо освещенного участка. Получающуюся картину поверхностного рельефа можно использовать для получения отражательных голограмм методом испарения металла, а также для копирования голограмм штампованием. В табл. 4 перечислены некоторые фоторезисты, выпускаемые промышленностью. Следует заметить, что в большинстве случаев толщина фоточувствительного слоя оказывается порядка микрометра. Существуют три типа процесса регистрации: образование органической кислоты, поперечных фотосвязей (фотосшивок) или фотополимеризации мономера. Диапазон регистрируемых длин волн простирается от УФ-области спектра до 5000 А, причем для этого диапазона можно выбрать фоторезист, обладающий либо широкой, либо узкой полосой спектральной чувствительности. Для достижения предельного разрешения необходима экспозиция около

Грим [25] описывает изготовление голографических дифракционных решеток на фоторезисте Щипли После проявления и сушки на этих решетках методом вакуумного испарения можно получить алюминиевое покрытие с высоким отражением. С другой стороны, проявленный фоторезист можно применять без покрытия как высококачественную тонкую фазовую решетку. Бартолини [3]

(см. скан)

исследовал количественные характеристики фоторезиста Шипли а Норман и Синг [41] сделали то же самое для Шипли Стейн [48] рассматривает киноголографический дисплей фирмы в котором на этом фоторезисте записываются голограммы трех цветоразделенных сфокусированных изображений, причем каждому изображению соответствует фиксированный угол падения опорной волны. После проявления фоторезист покрывается в гальванической ванне слоем никеля толщиной около при этом образуется матрица, используемая для высокоскоростного штампования полноцветных голограмм на подогретом прозрачном пластике.

Фоторезисты фирмы Кодак делятся на пять групп негативных резистов: Кодак фоторезист (KPR), Кодак орторезист (KOR), Кодак резист для травления металлов (KMER), Кодак резист тонкопленочный (KTFR) и Кодак микрорезист (KMR). К позитивным фоторезистам относится Кодак автопозитив резист, тип Бартолини [3] указывает на возможную трудность при использовании негативного фоторезиста для получения голограмм с поверхностным рельефом; это связано с тем, что во время экспозиции необходима прочная фиксация фоторезиста с подложкой, чтобы во время проявления фоторезист с изображением не отделился от нее. Эмульсия большинства негативных фоторезистов на границе с подложкой становится окончанием фотолиза, когда актиничный свет проникает в эмульсию на границу раздела эмульсия — воздух. До тех пор пока на границе раздела эмульсия — подложка не происходит фотолиз, материал, который не подвергался фотолизу, будет просто растворяться в проявителе, даже если он находился в экспонированной области пластинки. Таким образом, чтобы лучше укрепить материал на подложке, экспонирование негативного фоторезиста необходимо проводить через стеклянную или пленочную подложку.

Фоторезист Хорайзонс является негативным материалом, обрабатываемым сухим способом (его можно также обрабатывать и жидкими проявителями). В работе [57] описывается такой фоторезист, который при освещении его актиничным светом образует полимер, что приводит как к изменению коэффициента преломления, так и к образованию поверхностного рельефа. После экспонирования фоторезист можно обработать в течение 90 с в потоке быстродвижущегося воздуха, нагретого до 160° С. Такой фоторезист находит применение во многих случаях, когда необходима голографическая запись информации на низких пространственных частотах, поскольку получаемые при этом голограммы сравнимы по качеству с голограммами, изготовленными на пластинках Кодак 649F.

Незадубленная бихромированная желатина может использоваться как фоторезист для получения голограмм с поверхностным

(см. скан)

рельефом. Незадубленная желатина может проявиться в результате последующих фотолитических процессов, оставляющих задублен-ную желатину на обратной стороне подложки.