2.2.1.3 Реактивное испарение

Создавая условия для химического взаимодействия содержащихся в паре частиц различных веществ либо в процессе их перемещения от источника к подложке, либо непосредственно на поверхности подложки, можно получать пленки различных сплавов и соединений. Протекание процесса реактивного испарения, безусловно, зависит от кинетических и термодинамических свойств определенной системы паров.

Эффективность процесса осаждения испаренных веществ значительно возрастает при повышении реакционной способности частиц пара. Одним из способов повышения реакционной способности является ионизация частиц пара посредством их бомбардировки быстрыми электронами, испускаемыми нагретым источником. Другой способ заключается в том, что ионы одного из взаимодействующих компонентов создают с помощью тлеющего разряда, через который проходят частицы других компонентов. Этот метод, называемый «активированным реактивным испарением», успешно применяется для получения пленок смеси оксидов индия и олова (ITO) и Cu2S с очень хорошими оптическими и электрическими свойствами. Еще один метод повышения эффективности процесса осаждения состоит в получении атомарных форм стабильных двухатомных молекул, в том числе 02 (для осуществления окисления), Н2 (при осаждении гидридов) и N2 (при получении нитридов). К примеру, пленки гидрогенизированного аморфного кремния осаждают при испарении Si в присутствии атомарного водорода,

получаемого посредством пиролиза на раскаленной вольфрамовой нити [7].