7.7 Селенид меди и индия (CuInSe2)
Селенид меди и индия обладает чрезвычайно благоприятными свойствами как материал для создания фотоэлектрических преобразователей с гетеропереходом. Поглощение света в этом полупроводнике сопровождается прямыми оптическими переходами, что позволяет ввести менее жесткие требования к величине диффузионной длины неосновных носителей заряда.
легко получить в виде пленок как
так и
-типов проводимости, поэтому на основе данного материала могут быть созданы элементы с гомогенным и гетерогенным переходами. Ширина запрещенной зоны
близка к оптимальной для преобразования солнечного излучения в наземных условиях. Поскольку степень несоответствия параметров кристаллических решеток
(структура халькопирита) и
(гексагональная структура) составляет лишь 1,2%,
образуют идеальный гетеропереход. Значения энергий сродства к электрону этих материалов приблизительно равны между собой, поэтому на границе раздела отсутствует пик в зоне проводимости.
Возможность получения высокоэффективных приборов на основе гетероперехода
реализована при создании монокристаллических элементов [48—50]. При интенсивности излучения
солнечных элементов площадью
составляет 12%,
При изготовлении элементов на химически полированную монокристаллическую подложку из
наносят слой
толщиной
с использованием коаксиального изотермического двухкамерного испарителя, содержащего
Осаждение осуществляют со скоростью около 0,15 мкм/мин при температуре испарителя 350°С и температуре подложки в пределах
Просветляющим покрытием служит получаемый методом вакуумного испарения слой
. В интервале длин волн 0,55. ..1,25 мкм спектральное распределение коэффициента собирания однородно и его значения составляют 0,7.. .0,8. Границы спектрального диапазона чувствительности элементов в коротковолновой и длинноволновой областях соответствуют краям поглощения
Солнечные элементы большей площади обладают пониженным
поскольку из-за наличия микротрещин в кристаллах
напряжение холостого хода уменьшается.
После того как были получены пленки селенида меди и индия [51, 52], появилась возможность создания исключительно
методом вакуумного испарения тонкопленочных солнечных элементов с гетеропереходом
Рассмотрим эти элементы более подробно.
7.7.1, Процесс изготовления
На основе
создают тонкопленочные солнечные элементы на металлизированных подложках фрон-тально-барьерной (элемент освещается со стороны слоя
или тыльно-барьерной (освещение со стороны CdS) конструкций [53]. При изготовлении фронтально-барьерного элемента слой
толщиной 6...8 мкм наносят методом вакуумного испарения на подложку, нагретую до температуры 500 К. Образец извлекают из вакуумной камеры, и поверхность
подвергают кратковременному травлению в 10 %-ном растворе
Затем при температуре подложки 525 К с помощью вакуумного испарения (применяется испаритель, состоящий из двух лодочек, наполняемых
выращивают тонкий (толщиной
слой
Регулируя количество испаряемого селена, изменяют тип проводимости пленок. Травление в
необходимо для сенсибилизации структуры. Размер зерен в пленках обоих полупроводников составляет
Другой способ изготовления элементов заключается в том, что все входящие в их состав слои осаждают методом вакуумного испарения в едином цикле, без разгерметизации системы. При создании тыльно-барьерных элементов пленку
наносят на подложку с покрытием из золота непосредственно перед получением слоя
(толщиной 5...6 мкм). Концентрация носителей заряда в пленках
составляет
Преимущественное направление роста пленок совпадает с направлением
при этом ось
структуры перпендикулярна плоскости подложки. Верхний сетчатый контакт создают из
на поверхности
(в тыльно-барьерном элементе) или из пасты на основе
на поверхности
(во фронтально-барьерном элементе). Готовые солнечные элементы отжигают при температуре 450 К и давлении
Па в течение
мин. Их КПД не превышает 5,7 %.
Недавно Балдхаупт и др. [54] сообщили о создании тыльно-барьерных солнечных элементов (с просветляющим покрытием) площадью
на основе
с переменным уровнем легирования, КПД которых в условиях
достигает 9,53%. Схема конструкции элемента такого типа изображена на рис. 7.4. На подложку из оксида алюминия, покрытую слоем молибдена, методом вакуумного испарения (с использованием трех источников —
наносят обогащенный медью слой
Рис. 7.4. Схема конструкции высокоэффективного тонкопленочного солнечного элемента на основе
с переменным уровнем легирования [54].
При осаждении пленки
легирующей примесью служит индий. Верхний контакт представляет собой алюминиевую сетку. В качестве просветляющего покрытия применяется пленка
Термообработка элементов осуществляется при температуре 200°С в атмосфере водорода и аргона.
Тонкопленочные солнечные элементы на основе
изготовляют также и методом пульверизации с последующим пиролизом [55] или посредством ионного распыления в сочетании с вакуумным испарением [56]. КПД этих элементов, как правило, не превышает 2 %.
7.7.2 Фотоэлектрические характеристики
Вольт-амперная характеристика высокоэффективного тонкопленочного солнечного элемента тыльно-барьерной конструкции площадью
на основе
с просветляющим покрытием показана на рис. 7.5. При освещении имитатором солнечного излучения, воспроизводящим условия
(интенсивность света —
солнечные элементы имеют следующие выходные параметры: при отсутствии просветляющего покрытия
при использовании просветляющего покрытия из
Казмерски и др. [53] получили фронтально-барьерные элементы на основе
(в едином технологическом цикле) с КПД 4,4 %. Солнечные элементы, у которых слой
подвергается химическому травлению, имеют более низкий КПД (2,46%), вероятно, вследствие повышенного последовательного сопротивления, обусловленного загрязнением поверхности (и появлением на ней уровней энергетических состояний) в процессе травления и выдержки на воздухе. При интенсивности излучения
выходные параметры солнечных
элементов площадью
равны:
изготовлении в едином цикле) и
осуществлении травления слоя
Тыльно-барьерные элементы обладают повышенной эффективностью (их КПД составляет
при
благодаря более полному поглощению света при наличии окна из
и лучшим характеристикам перехода. Кроме того, как показывают результаты исследований (методом оже-спектроскопии) химического состава, элементы тыльно-барьерной конструкции имеют более резкий переход [57]. У элементов, подвергавшихся химическому травлению, на границе раздела обнаружен слой оксида.
На рис. 7.6 изображена кривая спектральной зависимости коэффициента собирания носителей заряда в тонкопленочном солнечном элементе на основе
с переменным уровнем легирования, имеющем КПД 9,53 % [54]. Коэффициент собирания
имеет высокие (более 0,85) и почти одинаковые значения в интервале длин волн
(вся область чувствительности элемента охватывает диапазон
Спектральное распределение коэффициента собирания носителей в элементе с КПД 5,7 %, изготовленном Казмерски и др. [54], однородно при
однако значения
в этой области существенно ниже
Рис. 7.5. Вольт-амперная характеристика тонкопленочного солнечного элемента на основе
с переменным уровнем легирования, измеренная в условиях
при интенсивности излучения
[54].
Рис. 7.6. Кривая спектральной зависимости коэффициента собирания
носителей заряда в тонкопленочном солнечном элементе на основе
[54].
Балдхаупт и др. [54] подробно изучили влияние термообработки, осуществляемой при температуре
и различном составе атмосферы, на характеристики элементов. Авторы отмечают, что в результате отжига ток короткого замыкания возрастает независимо от состава окружающей среды, в то время как напряжение холостого хода и коэффициент заполнения вольт-амперной характеристики увеличиваются при термообработке в смеси водорода с аргоном или на воздухе и понижаются при отжиге в чистом водороде или вакууме.
Казмерски и др. [57] исследовали методом оже-спектроскопии тонкопленочные солнечные элементы на основе
изготовленные в едином технологическом цикле и подвергнутые термообработке продолжительностью
при температуре 600 К. Авторы установили, что кадмий диффундирует из
в пленку трехкомпонентного соединения
Энергия активации этого процесса равна
а коэффициент диффузии атомов кадмия составляет
При температурах, не превышающих 575 К, диффузия меди в
почти не наблюдается. Поскольку при низких температурах
существует в виде единственной фазы, а атомы меди, находящиеся в кристаллической решетке халькопирита, прочно связаны с другими атомами, элементы на основе.
должны обладать большей стабильностью, чем приборы со структурой
[53]. Всесторонних испытаний солнечных элементов на основе
не проводилось, однако, учитывая, что за период, равный нескольким неделям, их напряжение холостого хода и ток короткого замыкания уменьшаются незначительно, можно предположить, что эти элементы относительно стабильны.
Свойства переходов в солнечных элементах на основе
подробно не изучались. Согласно имеющимся данным [53], ток, проходящий в прямом направлении, связан с напряжением экспоненциальной зависимостью, а диодный коэффициент равен
что свидетельствует о преобладании рекомбинационно-генерационного механизма дротекания тока. Балдхаупт и др.
выполнили анализ потерь энергии в высокоэффективных элементах с переменным уровнем легирования. Авторы установили, что последовательное сопротивление элементов составляет 1,2 Ом, шунтирующее сопротивление
Ом, плотность обратного тока насыщения —
и диодный коэффициент - 1,3. По их мнению, уменьшение последовательного сопротивления до 0,5 Ом позволит повысить КПД до 10,6%. Исследована возможность создания солнечных элементов данного типа, содержащих слои
вместо
. У тонкопленочных элементов со структурой
площадью
получен КПД 10% [58].