на межфазной границе. В-третьих, образуется гетероструктура, эффективно сдвигающая границу -перехода от металлургической границы.
В истории совершенствования гетеропереходных солнечных элементов сыграли основополагающую роль два общих принципа — использование гетерофазной структуры для устранения потерь, связанных с поверхностной рекомбинацией, и требование максимально возможного соответствия параметров кристаллических решеток используемых материалов. В этой связи следует упомянуть случаи, иллюстрирующие нарушение обоих зтих принципов: гомопереходный солнечный элемент с КПД 20% [Fan, Bozler, 1978] (5.2.3) и гетеропереходный ITO-InP солнечный элемент с КПД 14,4% [Sree Harsha е. а., 1977].
Первый пример показывает, что потери на поверхностную рекомбинацию можно снизить, выбирая соответствующую технологию изготовления, в данном случае путем формирования очень тонкого -слоя (или благодаря полезному влиянию пассивации поверхности на снижение скорости поверхностной рекомбинации при анодировании). Таким образом, другие прямозонные полупроводники могут образовывать высокоэффективные гомопереходные солнечные элементы при подходящем выборе технологии.
В другом случае (солнечного элемента со структурой ) нарушение указанных принципов, т. е. высокие выходные характеристики, связано с формированием скрытого гомоперехода, однако наше понимание тонкостей механизмов формирования гетерофазных структур еще не достаточно для предсказания возможности образования скрытых гомопереходов и их влияния на прохождение тока. Возникает, например, естественный вопрос, почему на основе аналогичной структуры ITO — не получены хорошие солнечные элементы. Следовательно, к двум указанным принципам следует добавить другие, в частности учитывающие химию процессов, протекающих на микроскопическом уровне.