Пред.
След.
Макеты страниц
Распознанный текст, спецсимволы и формулы могут содержать ошибки, поэтому с корректным вариантом рекомендуем ознакомиться на отсканированных изображениях учебника выше Также, советуем воспользоваться поиском по сайту, мы уверены, что вы сможете найти больше информации по нужной Вам тематике ДЛЯ СТУДЕНТОВ И ШКОЛЬНИКОВ ЕСТЬ
ZADANIA.TO
2.4.4. Гидротермальный синтез и рост кристалловГидротермальный метод выращивания кристаллов из растворов является особенным в физико-химическом отношении методом. Основное отличие его закчючается в использовании особых свойств воды вблизи критической точки Выращивание кристалла по этому методу производится следующим образом. В нижнюю камеру автоклава помещаются измельченные исходные материалы — вещество кристалла или его компоненты. Затем автоклав заполняется водой до определенного объема; обычно степень заполнения составляет 50—70%. Если растворимость исходного материала в чистой воде мала, то иногда добавляют некоторые солевые Герметически закрытый автоклав помещается в двухзонную печь так, чтобы нижняя часть его была нагрета до температуры 370-400 °С, а верхняя на 20—50° меньше. В этих условиях в ниж нижней части образуется насыщенный раствор, находящийся в контакте с исходными материалами. Путем конвекции раствор переносится в верхнюю часть автоклава к затравке, где при более низкой температуре он становится пересыщенным. Избыток растворенного вещества осаждается на затравочных кристаллах. Обедненный раствор возвращается к нерастворенным исходным материалам в нижнюю Ввиду большой длительности процесса и невозможности непосредственного наблюдения за его ходом физико-химические закономерности роста кристаллов в гидротермальных условиях недостаточно изучены. Из экспериментальных данных можно сделать несколько выводов о гидротермальном росте кристаллов: — скорость суммарного процесса экспоненциально зависит от температурного градиента; — скорость процесса зависит от соотношения поверхностей исходного твердого вещества (шихты) и растущего кристалла таким образом, что при увеличении поверхности кристалла скорость роста уменьшается. Опыт показывает, что растворение шихты не является лимитирующей стадией процесса в тех случаях, когда поверхность шихты более чем в 5 раз превышает поверхность кристалла, т. е. — зависимость скорости роста кристаллов от степени заполнения автоклава для большинства систем почти линейна. Эта линейная зависимость при степенях заполнения более 85% претерпевает резкий излом в сторону повышения скорости роста. Несомненно, это связано с диаграммой состояния воды, поскольку степень заполнения автоклава определяет плотность раствора, его вязкость, давление в системе и растворимость шихты, т. е. концентрацию — скорость процесса пропорциональна величине сечения конвекционного потока, — скорость переноса уменьшается с увеличением длины пути раствора, т. е. расстояния между шихтой и растущим кристаллом. Если принять все меры, необходимые для того, чтобы процессы растворения и переноса не были лимитирующими стадиями, то суммарный процесс будет определяться скоростью мнкропроцессов зарождения и роста на поверхности кристалла. Эти процессы были рассмотрены ранее.
|
1 |
Оглавление
|