Главная > Кристаллы квантовой и нелинейной оптики
<< Предыдущий параграф Следующий параграф >>
Пред.
След.
Макеты страниц

Распознанный текст, спецсимволы и формулы могут содержать ошибки, поэтому с корректным вариантом рекомендуем ознакомиться на отсканированных изображениях учебника выше

Также, советуем воспользоваться поиском по сайту, мы уверены, что вы сможете найти больше информации по нужной Вам тематике

6.4. ОПТИЧЕСКАЯ ПРОЧНОСТЬ КРИСТАЛЛОВ ПРИ ВОЗДЕЙСТВИИ ИМПУЛЬСНОПЕРИОДИЧЕСКОГО ИЗЛУЧЕНИЯ

В начальной стадии лазерного облучения воздействие импульснопериодического и непрерывного излучения похожи на воздействие импульсного. Но со временем наблюдается эффект накопления напряжений в кристалле, что можно видеть по изменению двулучепреломления. При длительном воздействии импульсно-периодического (частота следования 102 Гц) или непрерывного излучения напряжения в кристалле могут достигать предела прочности даже при плотности мощности лазерного излучения меньшей, чем пороговая. При накоплении напряжений происходит растрескивание по плоскостям спайности или по границам блоков Разрушение при импульсно-периодическом или непрерывном излучении происходит под действием термоиндуцированных внутренних напряжений, однако механизмы, определяющие накопление напряжений, могут отличаться для материалов различных классов (монокристаллов, поликристаллов, полимеров и др.) [23]. Накопление оптического разрушения приводит к уменьшению лучевой прочности кристалла с увеличением длительности лучевого воздействия. Ответственными за эффект накопления могут быть две основных группы процессов: во-первых,

это те процессы, которые приводят к росту поглощения света в материале в результате оптического воздействия; во-вторых, это процессы накопления изменений в кристаллической структуре (рост плотности дислокаций, зарождение и развитие трещин), которые ведут к ее хрупкому разрушению.

Первая группа процессов может инициироваться ионизацией примесных центров и матрицы кристалла как в результате многофотонных процессов, так и при воздействии коротковолнового излучения плазмы, возникающей на поверхности и на поглощающих включениях. Одним из основных процессов этой группы является разрастание поглощающих включений, которые при достижении некоторого критического размера разрушают окружающую их матрицу в результате теплового взрыва [24, 25]. Об изменении оптических свойств матрицы в процессе лазерного облучения свидетельствует наблюдавшееся под действием СОа-лазера возникновение центров окраски в ЩГК вблизи взрывающихся микровключений и возникающих трещин.

О влиянии пластического течения на процессы накопления оптического повреждения свидетельствует изменение напряженного состояния кристалла в процессе лазерного облучения и влияние на оптическую прочность факторов, приводящих к упрочнению кристаллов (см. п. 6.5).

Categories

1
Оглавление
email@scask.ru