13.3.6. Фотоионизация, создаваемая решеткой искровых разрядников

Борисов и др. [21] выполнили прямые измерения плотности фотоэлектронов, образующихся под действием решетки из искровых разрядников. Они изучали Не, N2 и смеси Не — N2 - СО2. Были испытаны следующие присадки с низким потенциалом ионизации: диметиланилин, ортоксилен и параксилен. На расстоянии 15 см от решетки искровых поверхностных разрядников с общей площадью мм эти авторы зарегистрировали следующие плотности фотоэлектронов: в Не, и менее при добавлении к смеси Не — N2. Добавление оптимального количества присадок увеличивало плотность фотоэлектронов примерно на порядок величины в Не и и на два порядка в смесях СО2 - N2 — Не.

Дэн и Клайн [42, 74] вычисляли плотность фотоэлектронов, создаваемую решеткой разрядников в смесях СО2—N2—Не. Они использовали данные Бэбкока и др. [10] по образованию фотоэлектронов одиночной искрой. Результаты расчетов в основном соответствуют измерениям Борисова и др. [21].