Импульсные плазменные лазеры.

Для ионизации активна среды в этих лазерах применяют быстро спадающие импульсы электрического разряда с характерными параметрами: напряжение до 20 кВ, сила тока до 300 А, длительность импульса порядка 0,1-1 мкс. Импульс генерации развивается в послесвечении разряда.

В качестве активной среды используется смесь из легко ионизируемого лазерно активного компонента и трудно ионизуемого вспомогательного (буферного) компонента. Последний нужен главным образом для обеспечения достаточно быстрого охлаждения свободных электронов в плазме.

Под действием мощного импульса возбуждения создается плазма с высокой концентрацией ионов различной кратности и свободных электронов. По окончании импульса возбуждения совершается процесс быстрого охлаждения свободных электронов за счет столкновений с атомами буферного газа. Затем происходит интенсивная рекомбинация ионов и электронов, производящая накачку лазерных переходов в активных центрах, в качестве которых выступают атомы или ионы (обычно однократные) легко ионизируемого компонента смеси. В создании инверсии существенную роль играет механизм электронного девозбуждения нижних рабочих уровней.

Импульсные плазменные лазеры созданы, в частности, на ионизированных парах щелочноземельных металлов . В качестве примера отметим плазменный

лазер на стронций-гелии, генерирующий на переходах в т. е. на переходах между уровнями однократных ионов Гелий играет роль буферного газа. Импульс возбуждения создает плазму с высокой концентрацией двукратных ионов стронция (ионов ). Процессы рекомбинации приводят к образованию возбужденных однократных ионов играющих в данном случае роль активных центров. Генерация реализуется на ряде переходов ионов основными являются линии 0,416 мкм (переход ) и 0,431 мкм (переход ) [71].